應(yīng)用范圍:OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動(dòng)速度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要而設(shè)置(1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復(fù)滑動(dòng),同時(shí)還可以設(shè)置爐體的滑動(dòng)距離。此款管式爐專門(mén)設(shè)計(jì)用CVD方法定向生長(zhǎng)單壁碳納米管(SWCNTs)。通時(shí)此款滑軌爐也可用來(lái)在硅片上生長(zhǎng)熔點(diǎn)較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭。
產(chǎn)品型號(hào) :OTF-1200X-50-DSL
上架時(shí)間 :2019-07-23
安裝尺寸:315 x 300 x 380 mm (爐體)
1200 x 400 x 530 mm ( 整個(gè)外形)
360 x 180 x 300 mm(電器控制柜)
重量:100Kg
OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動(dòng)速度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要而設(shè)置(1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復(fù)滑動(dòng),同時(shí)還可以設(shè)置爐體的滑動(dòng)距離。此款管式爐專門(mén)設(shè)計(jì)用CVD方法定向生長(zhǎng)單壁碳納米管(SWCNTs)。通時(shí)此款滑軌爐也可用來(lái)在硅片上生長(zhǎng)熔點(diǎn)較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭。
性能指標(biāo)和基本配置 | ||
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爐體結(jié)構(gòu) |
● 采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng) |
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功率 |
1.5KW |
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電壓 |
AC220V,單相 |
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最高共工作溫度 |
1200℃(≤1小時(shí)) |
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連續(xù)工作溫度 |
1100℃ |
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加熱區(qū)域 |
● 加熱區(qū):200mm(單溫區(qū)) |
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加熱元件 |
摻鉬鐵鉻鋁(表面涂有高溫氧化鋯涂層,可延長(zhǎng)其使用壽命) |
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爐管 |
● 高純石英管 |
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溫控系統(tǒng) |
● 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升溫、降溫和保溫程序 |
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爐體滑動(dòng)控制系統(tǒng) |
● 觸摸屏控制 |
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密封法蘭 |
● 儀器中配有一套不銹鋼密封法蘭(上面已安裝不銹鋼針閥和機(jī)械壓力表) |
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石英氣體噴嘴 |
可選配石英氣體噴嘴,將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開(kāi)通入,可有效減少副反應(yīng)發(fā)生,實(shí)現(xiàn)高端CVD工藝,如局部控制前體濃度化學(xué)氣相沉積工藝(ALC CVD)或單晶二維材料薄膜的生長(zhǎng)工藝等。 |
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真空度 | ||
滑軌長(zhǎng)度 |
1200mm |
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產(chǎn)品尺寸 |
● 315 x 300 x 380 mm (爐體) |
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重量 |
100Kg |
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質(zhì)量認(rèn)證 | ||
保修期 |
一年保修,終身技術(shù)支持。 特別提示: 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書(shū)。 |
|
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