● 石英真空腔體：280mm OD×260mm ID×310mm H，易清洗和放入樣品
● 安裝有一個2英寸的樣品臺，并且樣品臺可以旋轉(zhuǎn)，使所制薄膜達到更好的均勻性
● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，最高溫度可達到1700℃，并且配用專用氧化鋁舟，可裝入樣品（僅1600℃以下使用，若蒸發(fā)溫度大于1600℃，樣品應(yīng)直接放在鎢絲籃中）
● 精確控溫：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃
● 真空度：10-5Torr(如采用分子泵系統(tǒng))
● 進氣系統(tǒng)可實現(xiàn)腔體的清洗和反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜

● 電壓：AC220V，50/60Hz，單相
● 功率：1200W，最大電流為30A
● 4蒸發(fā)坩堝，每個容積為3mL。四坩堝可依次進行蒸發(fā)，實現(xiàn)多層膜沉積工藝（不能同時蒸發(fā)）
● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測量和控制（如圖1）
● 標準采用S型熱偶：工作溫度為200℃-1500℃（圖2）
● 可選B型熱電偶：工作溫度為1200℃-1700℃
● 安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC（如圖3）
● 也可將儀器轉(zhuǎn)換到手動調(diào)節(jié)接狀態(tài)，內(nèi)部不安裝熱電偶，直接采用手動調(diào)節(jié)輸出電流大小，發(fā)熱源溫度可高達2000℃，可實現(xiàn)對樣品鍍碳等實驗（圖4）
● 儀器中配備4個蒸發(fā)坩堝，每個坩堝均配有2個鎢絲藍加熱元件

              圖1                          圖2                                 圖3                            圖4                                 圖5

● 儀器頂部安裝有樣品臺，直徑為Φ50mm
● 樣品臺可旋轉(zhuǎn)
● 樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍為：40mm-85mm

● 腔室內(nèi)可安裝精密的薄膜測厚儀，可點擊圖1&圖2查看詳情。測厚精度可達0.10 ?。測厚儀LED顯示可實現(xiàn)：
● 根據(jù)數(shù)據(jù)庫，輸入涂層信息
● 顯示鍍膜總厚度以及鍍膜速度
● 可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD，用于薄膜厚度的檢測，點擊圖3查看詳情

● 設(shè)備上有一KF25接口用于連接真空泵
● 最高真空度可達4.0E-6 Torr（采用渦旋分子泵）
● 雙極旋片真空泵或干泵，可使儀器真空腔體的真空度達到10-2Torr
● 真空度達到10-2torr時，可蒸發(fā)一些貴金屬，如金和鉑，也可蒸發(fā)一些有機材料，可選購數(shù)顯防腐真空計PCG-554(測量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
● 高真空度可達4.0E-6 Torr（采用渦旋分子泵），此時可蒸發(fā)對氧敏感的材料，如Al. Mg, Li，分子泵上帶有復(fù)合真空計（最高可測量真空度為1.0E-7Torr）
● 可在本公司選購各種真空泵和真空計

● 進氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜
● 進氣口安裝有一針閥，用于調(diào)節(jié)進氣流量

注：氧化鋁坩堝以及鎢絲藍為耗材，可與本公司銷售聯(lián)系購買

● 總體尺寸：550mm L×550mm W×750mm H
● 石英腔體尺寸：280mm OD×260mm ID×310mm H

為了獲得高真空度，可采用以下做法 ：
● 使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗
● 抽真空時，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預(yù)加熱到500℃，保持2小時
● 使用溫度高于1300℃時，保溫時間不可大于1小時，否則會損壞密封圈
● 當腔體的各閥門關(guān)閉時，請勿開啟升溫程序或手動調(diào)節(jié)電流進行加熱
● 當儀器正在蒸發(fā)材料時，不可打開泄氣閥或關(guān)閉真空泵，只有當加熱溫度降至100℃時，才可放氣或關(guān)閉真空泵

CE認證