應用范圍:ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
產品型號 :ALD-1200X-4
上架時間 :2019-07-09
ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
性能指標和基本配置 | ||
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控制面板 |
● 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制。 |
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ALD進氣閥 | ||
精密液體氣相發(fā)生器 | ||
雙溫區(qū)管式爐 |
● 連續(xù)工作的最高溫度為1100℃ |
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防腐型數(shù)顯真空計 |
● 測量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr |
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真空泵(選配) |
● 管內真空度可達10-2Torr。 |
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混氣系統(tǒng) | ||
更新觀念 |
您可采用ALD設備搭建等離子增強原子層沉積+化學氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+CVD)和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+PVD+CVD),用于生長各類材料 ( PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD) |
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應用注意事項 |
● 爐管內氣壓不可高于0.02MPa ● 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ● 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態(tài),爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài) ● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 ● 石英管的長時間使用溫度<1100℃ ● 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等) |
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質量認證 |
所有電器元件(>24V)均滿足UL/MET/CSA認證/CE認證,如您另付費用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認證 |
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保修期 |
一年保修,終身技術支持。 特別提示: 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 點擊查看售后服務承諾書。 |
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