● 結(jié)構(gòu)緊湊、小型化的桌上型儀器
● 用各種氣體清洗和去除晶片上納米級(jí)有機(jī)污染物。
● 在制膜實(shí)驗(yàn)之前預(yù)先清潔鍍膜基底的優(yōu)秀工具。清洗后鍍膜的質(zhì)量可以更好。
● 鉸鏈?zhǔn)介T(mén)，方便裝樣
● 石英腔的直徑是3英寸，在里面可以放入一個(gè)石英舟，最大清洗一個(gè)2英寸的基片。
● 清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更換
● 使用可調(diào)射頻電源，可以設(shè)置功率為低、中、高級(jí)別；低成本、操作安全。

● 低功率設(shè)定：直流680V，10mA,6.8W;
● 中功率設(shè)定：直流700V，15mA,10.5W;
● 高功率設(shè)定：直流720V，25mA,18W;
● 射頻源輸出頻率：13.56MHz;
● 等離子直流電源：
● 輸入電壓：220V,50Hz

● 直徑75mmx長(zhǎng)200mm的石英墻體，前蓋可以開(kāi)啟。
● 高純度石英腔體，使用壽命比玻璃長(zhǎng)。

設(shè)備標(biāo)配一個(gè)數(shù)顯電阻真空機(jī)用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)清洗倉(cāng)內(nèi)的真空度。

● 您可以訂購(gòu)額外的石英腔體，用于備用。
● 如果需要一個(gè)通入兩種氣體的工藝解決方案，PDC-36G等離子清洗機(jī)可以與2路混氣系統(tǒng)組合（點(diǎn)擊下面第一張圖片了解詳情）
● 您可以訂購(gòu)石英晶片載體來(lái)清潔2英寸晶片

此設(shè)備不包含真空泵。

● 多種氣體可以用于等離子清洗，例如氮?dú)?、氬氣、空氣、混合氣體，主要取決于處理何種材料。
● 可以使用<4％的H2混合惰性氣體
● 警示：不能使用可燃性及腐蝕性氣體。

353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）

（不含泵）8kg

等離子清洗機(jī)工作原理

CE認(rèn)證