應(yīng)用范圍:UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤(pán)的中心,使整個(gè)載物盤(pán)受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤(pán)可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤(pán)作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過(guò)樣品盤(pán)的材質(zhì)不同可以選擇上盤(pán)的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。
產(chǎn)品型號(hào) :UNIPOL-1000D
上架時(shí)間 :2019-09-12
安裝尺寸:780mm×590mm×750mm
UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤(pán)的中心,使整個(gè)載物盤(pán)受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤(pán)可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤(pán)作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過(guò)樣品盤(pán)的材質(zhì)不同可以選擇上盤(pán)的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。
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