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VTC-3RF 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀

應(yīng)用范圍：VTC-3RF三靶射頻磁控濺射鍍膜儀，配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導(dǎo)電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

產(chǎn)品型號：VTC-3RF

上架時間：2019-08-16

安裝尺寸：700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

重量：80Kg（不包括泵）

A^-A⁺

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VTC-3RF三靶射頻磁控濺射鍍膜儀，配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導(dǎo)電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

性能指標(biāo)和基本配置
主要特點	● 標(biāo)配的石英腔體（也可選配金屬腔體）方便觀察（圖1） ● 相比傳統(tǒng)濺射儀，體積小巧，拆裝方便（圖2） ● 模塊化設(shè)計，靶頭，電源等多種可選，自由DIY（圖3） ● 基臺可旋轉(zhuǎn)可加熱 ● 可濺射金屬和氧化物。實驗室已初步制備了氧化鋅、碲化鉍、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。圖1 圖2 圖3
基本參數(shù)	● 輸入電源：220V AC50/60Hz ● 設(shè)備功率：<1500W ● 靶臺加熱溫度：500℃ ● 樣品臺轉(zhuǎn)速：0-10r/min ● 靶頭可調(diào)傾角：0-25度 ● 濺射腔體尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 ● 靶材尺寸要求：1英寸磁控濺射靶頭Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度） 2英寸磁控濺射靶頭Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度) ● 最高使用功率：1英寸磁控濺射靶頭100W 2英寸磁控濺射靶頭300W
機體結(jié)構(gòu)	● 設(shè)備配備三個直流射頻通用靶頭，1英寸2英寸尺寸可選。 ● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺，最高加熱溫度是500℃（圖1） ● 配有300W自動匹配射頻電源和500W的直流濺射電源（可自由選擇）（圖2） ● 設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶（圖3） ● 配有靶頭電動升降臺（圖4） ● 配有高純石英密封罩（圖5）圖1 圖2 圖3 圖4 圖5
產(chǎn)品尺寸	700mm L x 770 mm W x 1900 mm H
凈重	80 kg（不包括泵）
認證	CE認證
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi) 點擊查看售后服務(wù)承諾書。

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