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小巨人
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VTC-2DC 2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

應(yīng)用范圍:VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

產(chǎn)品型號 :VTC-2DC

上架時間 :2019-08-19

安裝尺寸:540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

重量:70 kg(不包括泵)

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       VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

 性能指標(biāo)和基本配置
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜 1
主要參數(shù)

● 輸入電源:220V AC 50Hz
● 輸出電壓:600 VDC
● 輸出功率:最大500W
● 整機(jī)功率:1000W(包括真空泵)

濺射腔體

● 采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H(配置直靶頭)
● 尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 290 mm H(配置帶角度傾斜靶頭)
● 密封法蘭:直徑為165 mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈

濺射頭&樣品臺

濺射頭安裝靶材直徑為2英寸,同時可選配1英寸濺射頭
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1英寸靶頭 2英寸靶頭
● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調(diào)
● 樣品臺可加熱,加熱溫度RT-500℃(RT為室溫)
● 安裝有一可手動操作的擋板
● 最大可制膜的直徑為:2英寸(標(biāo)配2英寸,如果需要更大尺寸請與我們銷售聯(lián)系)
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真空系統(tǒng)

● 安裝有KF25真空接口
● 數(shù)字真空壓力表(Pa)
● 此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)
● 采用機(jī)械泵< 3.8E-2 Torr(參考值,詳情請點擊)
● 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值,詳情請點擊)
● 可在本公司選購各種真空泵
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進(jìn)氣

● 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
● 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

● 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
● 可在本公司選購各種靶材
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薄膜測厚儀(可選)

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
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產(chǎn)品尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H
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凈重 70 kg(不包括泵)
使用提示

● 有時為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
● 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
● 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
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    超聲波清洗機(jī)          等離子清洗機(jī)             蒸鍍儀                      手套箱

警告

● 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機(jī)體。
● 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

認(rèn)證

1CE認(rèn)證

保修期 一年保修,終身技術(shù)支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)
點擊查看售后服務(wù)承諾書。
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