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小巨人
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VTC-1RF 1英寸100W射頻磁控濺射鍍膜儀

應(yīng)用范圍:VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

產(chǎn)品型號(hào) :VTC-1RF

上架時(shí)間 :2019-08-19

安裝尺寸:540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

重量:70 kg(不包括泵)

產(chǎn)品簡述 產(chǎn)品詳情 產(chǎn)品視頻 留言咨詢

       VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

 性能指標(biāo)和基本配置
我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜 1
主要參數(shù)

● 輸入電源:220V AC 50/60Hz
● 最高使用功率:100W
● 靶頭數(shù)量:單個(gè)1英寸磁控濺射靶
● 設(shè)備功率:800W(包括真空泵)
● 樣品臺(tái)加熱溫度:500℃

濺射腔體

● 采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H
● 密封法蘭:直徑為165 mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈

射頻電源

● 設(shè)備有兩種射頻電源可選分別為:(圖一、二)
● 300W自動(dòng)匹配射頻電源
● 100W的手動(dòng)匹配射頻電源
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            圖1                           圖2
注意:
● 1英寸靶頭最大使用功率為100W
● 自動(dòng)射頻電源的最大功率為300W,但是受靶頭限制,最大功率只能使用100W
● 此設(shè)備支持多種DIY方案,購買前請(qǐng)務(wù)必與我公司銷售聯(lián)系,同時(shí)歡迎您帶料到科晶實(shí)驗(yàn)室實(shí)驗(yàn)

濺射頭&樣品臺(tái)

● 一個(gè)1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接(圖一)
● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),其與濺射頭之間距離可調(diào)
● 濺射頭角度可調(diào)
● 樣品臺(tái)可加熱,加熱溫度室溫-500℃
● 安裝有一可手動(dòng)操作的擋板
● 最大可制膜的直徑為:4英寸(參考值,詳情請(qǐng)點(diǎn)擊)
● 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用(圖四)
● 設(shè)備包含一臺(tái)水冷機(jī),用于靶頭冷卻(圖五)
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                圖1                            圖2                               圖3                              圖4                                  圖5

真空系統(tǒng)

● 安裝有KF25真空接口
● 數(shù)字真空壓力表(Pa)
● 此系統(tǒng)運(yùn)行可通入氣體運(yùn)行
● 采用機(jī)械泵<1.0E-2 Torr(參考值,詳情請(qǐng)點(diǎn)擊)
● 采用渦旋分子泵<1.0E-5 Torr(參考值,詳情請(qǐng)點(diǎn)擊)
● 可在本公司選購各種真空泵
1

進(jìn)氣

● 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
● 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

● 靶材尺寸要求:Φ50mm ×(0.1-3)mm(厚度)
● 可在本公司選購各種靶材
1

薄膜測(cè)厚儀(可選)

可在本公司選購薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上
11 1

產(chǎn)品尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H
1

凈重 70 kg(不包括泵)
使用提示

● 此設(shè)備有多種DIY方案可供選擇,具體請(qǐng)聯(lián)系銷售部
● 為了保證濺射效果,非導(dǎo)電靶材必須安裝銅墊塊
● 可在本公司購買單晶基片從A到Z(點(diǎn)擊下圖查看詳情)
1
本公司濺射鍍膜機(jī)在500℃已經(jīng)成功將ZnO濺射在Al2O3襯底上(點(diǎn)擊下圖查看XRD圖譜)
1
● 有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
● 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
● 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈
● 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
● 超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮?dú)飧稍铮?)真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
● 制造一個(gè)薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
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     超聲波清洗機(jī)         等離子清洗機(jī)              蒸鍍儀                    手套箱

警告

● 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動(dòng)機(jī)體。
● 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

認(rèn)證

1CE認(rèn)證

保修期 一年保修,終身技術(shù)支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)
點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。
暫無內(nèi)容
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