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小巨人
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VTC-16-D 小型三靶等離子濺射儀

應用范圍:VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀,其靶頭尺寸為2英寸,并且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀設計主要是制作一些金屬薄膜。

產(chǎn)品型號 :VTC-16-D

上架時間 :2019-08-16

安裝尺寸:L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

重量:20Kg(不包括泵)

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       VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀,其靶頭尺寸為2英寸,并且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀設計主要是制作一些金屬薄膜。

 性能指標和基本配置
特點

● 特別為SEM樣品鍍導電性薄膜設計
● 體積小巧,操作簡單,容易上手。
● 擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。

主要參數(shù)

● 輸入電源:220V AC 50/60Hz
● 功率:200W
● 輸出電壓:500 VDC
● 濺射電流:0-50 mA可調(diào)
● 濺射時間:0-120S可調(diào)

濺射腔體

● 采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H
● 密封:采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈

濺射頭&樣品臺

● 濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸,厚度0.1 - 2.5mm
● 濺射時間1-120S可調(diào)
● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調(diào)。
● 可選購加熱型樣品臺,其最高加熱溫度為500℃
● 安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射。
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真空系統(tǒng)

● 安裝有KF25真空接口
● 數(shù)字真空壓力表(Pa)
● 此系統(tǒng)可通入氣體運行
● < 1.0E-2 Torr (采用機械泵)(僅供參考,詳情請點擊)
● < 1.0E-5 Torr(采用渦旋分子泵)(僅供參考,詳情請點擊)
● 可在本公司選購各種真空泵
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進氣

● 設備上配1/4英寸進氣口,方便連接氣瓶
● 設備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

● 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)
● 此設備標配為銅靶
● 可在本公司選購各種靶材

各種靶材的參數(shù)(僅供參考) 對于濺射各種金屬靶材,需要摸索最理想的濺射參數(shù),下表是本公司實驗所設置的參數(shù),歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝(僅供參考,詳情請點擊)
靶材種類 真空度(Pa) 濺射電流(mA) 時間(s) 濺射次數(shù)
Au 31-33 28-30 100 1
Ag 31 28 100 1
薄膜測厚儀(可選)

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
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產(chǎn)品尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
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凈重 20 kg(不包括泵)
使用注意事項

● 有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
● 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲,(2)異丙醇超聲-去除油脂,(3)吹氮氣干燥,(4)真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
● 請使用>5N純度氬氣等離子體濺射
● 濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射
● 由于能量低,該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al,Mg,Zn,Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發(fā)鍍膜機。點擊下面圖片查看細節(jié)
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     超聲波清洗機         等離子清洗機     大功率磁控濺射儀             蒸鍍儀

警告

● 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
● 氣瓶上應安裝減壓閥(不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶頭。

認證

1CE認證

保修期 一年保修,終身技術支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)
點擊查看售后服務承諾書。
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